電子廠用超純水- ROTEK集團 | 中藥處方小百科

根據美國ASTM標準，電子行業超純水水質標準需符合（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）.目前，預脫鹽處理常常採用的主要是離子交換工藝和 ...

積體電路(IC)是以光學方式把回路印刷到矽晶片上，晶片上的元件或連接元件間的配線線徑極微細，只有1～2um或更小，其間若有微粒或微生物附著，易使回路短路。製程中需使用大量高純度的純淨水洗淨(達到18MΩ-CM)，以保有高優良率製造1M bit的DRAM產品。

一、用途簡介

本文針對某電子廠工業用超純水系統工程之解決方案介紹。該廠對系統要求產品水量為50m3/h，本案例採用兩級逆滲透裝置的系統方案，預估回收率為75%，故系統的設計進水水量為66.7 m3/h。

電子用純水不同於一般的純水設備，它對水質具有更為嚴格的規定，屬於超純水範疇。一般來說，超純水製備主要包括預脫鹽與精處理脫鹽兩大部分，如何進行工藝的選擇和組合成為超純水製備的關鍵。系統產出之超純水根據產品水的用途與要求，確定產品水的目標水質為：電阻率≥10MΩ·cm 。

二、系統流程圖

本超純水工程採用以逆滲透為主體工藝，混床作為精處理工藝。具體流程簡圖如下：

1、超純水設備流程

根據美國ASTM標準，電子行業超純水水質標準需符合（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）

目前，預脫鹽處理常常採用的主要是離子交換工藝和逆滲透工藝。目前基本上都採用逆滲透技術。和離子交換相比，逆滲透具有運行穩定、占地少、操作維護簡單、可實現高度自控，處理水量越大，其優勢就越明顯。

預脫鹽後續的精脫鹽處理工藝則根...